XPS(X射线光电子能谱)当固定激发源能量时，其光电子的能量仅与元素的种类和所电离激发的原子轨道有关，由此根据光电子的结合能定性分析物质的元素种类。经X射线辐照后，从样品表面射出的光电子的强度与样品中该原子的浓度呈线性关系，可以进一步进行元素的半定量分析。另外，XPS的重要应用是对元素的化学价态进行分析。
仪器型号及参数
- 仪器型号：Thermo Scientific K-Alpha
- 仪器技术参数
- 离子源：100-4000eV
- 束斑直径：1-10mm
- 溅射速率范围：0.1-50nm/min
- 采样深度：金属0.5-2nm，无机物1-3nm，有机物3-10nm
送样要求及注意事项
- 固体粉末：均匀干燥，粒度小于70um（过200目），质量不少于100 mg；
- 块体、金属及薄膜样，长宽小于10mm，高度小于5mm。
- 含有挥发性、油污污染物的样品许提前去除. 带有磁性的样品,一定提前告知,否则设备损坏。
测试实例
参考标准
- ISO 15472:2001《表面化学分析 - X 射线光电子能谱 - 测量重复性和再现性的确定》
- ISO 15473:2001《表面化学分析 - X 射线光电子能谱 - 谱图识别和峰拟合方法》
- ISO 17808:2014《表面化学分析 - X 射线光电子能谱 - 俄歇参数和化学价态分析指南》
- ASTM D5709-95 (2015)《用 X 射线光电子能谱法分析有机聚合物表面的标准实施规程》
- ASTM E1509-11 (2019)《用 X 射线光电子能谱法进行表面分析的标准指南》
- ASTM E1621-14 (2020)《用 X 射线光电子能谱法进行材料化学分析的标准试验方法》
- ISO 18118:2023 表面化学分析—XPS和UPS能谱校准与数据报告指南
- ASTM E1523-15(2021) XPS测定表面元素组成标准指南
- ASTM E2108-16 XPS深度剖析（溅射）标准方法
- GB/T 36401-2018 表面化学分析—X射线光电子能谱（XPS）测定元素组成
- GB/T 40072-2021 催化剂表面活性组分XPS表征方法
