光谱

椭偏仪测试服务_薄膜厚度与折射率n/k值检测- 剂拓科技

剂拓科技提供专业光谱椭偏仪测试服务。可精确测量纳米级薄膜厚度、折射率(n)及消光系数(k)。支持紫外-可见-近红外全谱段分析,适用于半导体晶圆、光学镀膜、2D材料及光伏多层膜结构。配备高精度自动化设备,提供专业的光学建模与拟合报告。

椭偏仪原理

椭偏仪用于探测薄膜厚度,光学常数以及材料微结构的光学测量设备。椭圆偏振光在材料表面的反射,已知入射光的偏振态,偏振光在样品表面被反射,测量得到反射光偏振态,计算或拟合出材料的属性

设备型号及参数

  • 仪器型号:ME-L 穆勒矩阵光谱椭偏仪
  • 仪器技术参数
  • 分析光谱:210-1000nm
  • 重复性:0.005nm

送样要求及注意事项

3<长<10cm, 3<宽<10cm, 厚<1mm 的平板,表面要求光洁。

测试实例

参考标准

  • SEMI M91-0319:《Standard Test Method for Measurement of Silicon Oxide Thickness by Ellipsometry》
  • ASTM F2864-18:《Standard Test Method for Measurement of Thin Film Thickness and Optical Constants by Variable Angle Spectroscopic Ellipsometry》
  • ASTM D4146-15:《Standard Practice for Ellipsometric Measurements of Optical Properties of Solid Materials》
  • ISO 15031-7:2000:《Road vehicles - Electrical and electronic equipment for vehicles - Part 7: Test methods for optical properties》